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三星计划引进三井化学EUV光罩护膜,提升3纳米制程良率

时间:2025-02-27 09:25:20

  三星电子为提高晶圆代工先进制程产能,正致力于提升3纳米制程良率。据报道,三星计划引进日本三井化学的极紫外光(EUV)光罩护膜,并加速新一代纳米碳管(CNT)光罩护膜的商用化。

  三星将从三井化学采购数十亿韩元规模的EUV光罩护膜,用于京畿道华城的3纳米代工产线。光罩护膜在半导体曝光制程中起关键作用,覆盖于光罩上防止异物沾染,对7纳米以下先进制程尤为重要。

  三星因3纳米制程良率不佳而面临大客户流失问题,2024年第4季晶圆代工事业部亏损约2万亿韩元。三井化学与荷兰曝光设备大厂ASML合作研发相关技术,最终获得三星青睐。

  此外,三星长期以来也自主投入EUV光罩护膜研发,并与Fine Semitech合作研发CNT光罩护膜,透射率高达94%以上,对High-NA EUV时代至关重要。若能加速商用化,将成为三星追赶台积电的关键之一。

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