12月26日，普照材料在其新建产业园区正式启动了高精度掩模基板项目，该项目总投资达18亿元人民币，分为两期进行建设。预计项目一期将于2025年投产，二期于2026年完成。
一期重点发展用于平板显示的8.6代及以下高精度掩模基板，投资额为8亿元；二期则计划建设半导体高精度掩模基板项目，涵盖最高可支持28nm制程的技术，投资额为10亿元。
掩模基板作为半导体和显示技术的核心组成部分，一直以来是我国产业发展的关键“卡脖子”问题。目前，国内高端掩模基板大多依赖进口，严重影响了行业的自主可控和技术创新。普照材料的此次项目建设，将大大突破这一瓶颈，推动国产化进程。
作为成立于2003年的国内领先掩模基板研发制造企业，普照材料在技术创新和市场开拓方面一直走在前沿。其研发的多款掩模基板已成功应用于平板显示、集成电路、精细光学等多个行业，并远销欧美、日韩等市场。此次项目投产后，将使普照材料成为国内最大的掩模基板供应商之一。
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