Nikon开发新型ArF液浸式曝光机，力争市场份额

　　Nikon正与芯片制造商合作，开发新平台ArF液浸式曝光机，计划于2028年推出原型机，并计划在2030年后开发后续机型。

　　该设备特色包括小型化平台、新投影镜头与新晶圆平台，旨在提升运作速度与便利性，并与ASML设备兼容，以便客户转换。

　　目前，ASML在ArF液浸式曝光机市场中占据9成以上份额，而Nikon的目标是通过新型设备，扩大市场份额。为此，Nikon强调设备的兼容性，如可使用ASML设备用户现有的光罩。

　　随着DRAM与逻辑IC的3D化发展趋势，Nikon认为新型ArF液浸式曝光机的需求将进一步扩大。公司希望广泛客户，包括台积电、英特尔和三星电子等半导体制造大厂，能使用其新型设备。

　　此外，Nikon在ArF乾式曝光机市场中拥有超过1成份额，公司希望在ArF液浸式曝光机市场中，实现从个位数百分比到两位数的突破。

　　除了ArF液浸式曝光机，Nikon还生产KrF曝光机与i线曝光机，投入各种光源曝光机市场。