尼康拟于2028财年推出新型浸没式ArF光刻机

　　尼康在其 2025 财年第三财季（截至 2024 年 12 月 31 日）财报演示文稿中透露，正与合作伙伴共同开发一款新型光刻机，该设备将兼容 ASML 主导的浸没式 ArF（ArFi）光刻生态，预计于 2028 财年（2027 年 4 月 - 2028 年 3 月）推向市场。

　　在当前的浸没式 ArF 光刻领域，ASML 凭借成熟的 TWINSCAN 双工件台技术，占据了超过九成的市场份额。尼康作为该领域为数不多的参与者之一，希望通过这款新产品，提升其在浸没式 ArF 光刻市场的份额，使其与在干式 ArF 领域的占比相当。
 

　　尼康认为，随着 DRAM 内存和逻辑半导体技术向三维方向发展，对浸没式 ArF 光刻技术的需求将不断增长。为了从 ASML 手中争夺更多的 ArFi 订单，尼康计划使新开发的光刻机与 ASML 同类设备生态兼容，以便原计划采用 ASML 光刻机的用户能够更轻松地迁移至尼康平台。