Rapidus迈出关键一步，引入EUV光刻技术

　　日本半导体行业迎来了重要的突破。Rapidus公司在其北海道千岁的芯片制造设施中开始安装世界领先的极紫外（EUV）光刻设备，成为日本首家引进这一尖端技术的企业。

　　在新千岁机场举行的设备接收仪式上，Rapidus CEO小池淳义表示：“我们将在北海道和日本，为全球提供最先进的半导体。”这一声明突显了Rapidus的雄心，并为日本的半导体产业注入了新的动力。

　　此次安装的EUV光刻设备由荷兰ASML公司提供，是目前全球唯一的EUV光刻设备制造商。每个设备的价值约为1.8亿美元，系统体积庞大，重达71吨，相当于一头鲸鱼。

　　安装过程将分四个阶段进行，完成后，这些设备将帮助Rapidus实现生产超精细电路的目标，为全球芯片制造带来巨大的技术升级。

　　Rapidus正在与IBM合作，预计将在2025年推出采用尖端2nm工艺的原型芯片，计划于2027年开始大规模生产。这一进展意味着，Rapidus将与全球半导体巨头台积电、三星和英特尔竞争，推动日本重回半导体行业的领先位置。