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中科院研发固态深紫外光激光,或助力半导体曝光技术革新

时间:2025-03-24 12:49:14

  据Toms Hardware引述国际光学与光子学会(SPIE)报告称,中科院研究人员成功开发出一种固态深紫外光(DUV)激光技术。这一技术能够在实验室环境下产生193纳米波长光源,与当前半导体曝光技术所采用的关键光源波长一致。尽管该技术仍处于早期研究阶段,但其潜在应用前景备受关注。

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