JX金属在美投资溅镀靶材新厂，日本母材进口成隐忧

　　JX金属，日本石油业者ENEOS控股旗下铜冶炼子公司，宣布在美国亚利桑那州投资约1.2亿美元兴建半导体材料新工厂，主要生产溅镀靶材，预计2025年初投产，供应台积电、英特尔等晶圆厂。该工厂占地约26万平方米，产能将增加近1倍。

　　然而，溅镀靶材的金属母材需在日本生产，若川普2025年1月上任后对海外进口产品实施高关税，可能冲击从日本进口母材的生产模式。

　　此外，JX金属在日本茨城县也投资1,500亿日圆兴建新工厂，生产溅镀靶材的母材锭块，预计2025年度完工。该公司在溅镀靶材锭块的产能目标是到2027年度增加6成。

　　虽然JX金属在软性印刷电路板用压延铜箔市场占7成以上，但目前半导体材料的市况更加旺盛。考虑到台积电、Rapidus等厂的需求，JX金属决定集中生产半导体材料，缩减智能手机等相关生产项目。

　　JX金属已向东京证交所提出IPO申请，预计2025年上市，目标市值7,000亿日圆。该公司正以大规模投资展现其在半导体领域的成长策略。