Rapidus引进EUV设备，迈向2纳米芯片量产

　　Rapidus，一家致力于量产2纳米芯片的日本公司，近日宣布已成功引进日本首台量产用极紫外光（EUV）曝光机「NXE:3800E」，并举行了纪念仪式。该设备将被安置在位于北海道千岁市的工厂「IIM-1」，且未来还将引进更多同类设备。

　　Rapidus社长小池淳义在仪式上表示，这是从北海道向全世界供应最先进半导体的稳健第一步。他透露，虽然目前无法公开具体引进数量，但一台或两台设备无法满足Rapidus的产量目标。

　　EUV曝光机部分装置已于2024年12月14日抵达新千岁机场，预计将于2024年底前完成全部设备的搬入。由于设备庞大且精密，搬运和安装过程需要高度专业和谨慎。

　　Rapidus在2纳米量产技术上正按计划顺利推进，并已派遣技术人员至美国IBM研究中心进行研发。预计2025年4月试产产线名员工在厂工作。

　　尽管台积电可能在2纳米芯片量产上领先Rapidus，但小池淳义强调，Rapidus的制造流程在速度上具有优势，能更快追上良率与效能要求。