三星电子在最新的3D NAND Flash微影制程中减少了厚膜光阻剂的使用量，以降低生产成本。然而，此举对独家供应商东进世美肯产生了冲击。
据韩媒报道，随着三星减少厚膜光阻剂用量，东进世美肯的营收预计将逐渐下降。为应对这一情况，东进世美肯已向多家原料供应商提出自救方案。
三星在最新的3D NAND制程中制定了减少光阻剂涂布量的目标，预计涂布量将减少近一半。为达到这一目标，三星不仅调节了涂层设备的旋转量，还调整了蚀刻条件。
三星与东进世美肯长期合作开发厚膜氟化氪（KrF）光阻剂，该材料仅供三星独家使用。然而，随着三星采用新的成本削减制程，东进世美肯的营收冲击逐渐显现。
据悉，东进世美肯2024年的光阻剂相关营收预计约为2500亿韩元，其中供应给三星的3D NAND厚膜KrF光阻剂营收占比约60%。为应对三星减少光阻剂用量带来的影响，东进世美肯也在向材料供应商要求降低价格。
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