截至10月底,北京市政府投资基金已完成对139个项目的投资决策,其中,北京晶格领域半导体有限公司获得了重点投资,进一步加快了液相法SiC衬底的研发和生产进程。
晶格领域专注于碳化硅(SiC)衬底的研发与生产,其在顺义已建成的液相法SiC衬底中试线,经过此次资金注入,将加速小规模产线年初完成整条生产线的建设。该产线不仅涵盖了碳化硅晶体的生长、加工和检测等全流程,还初步建成了6至8英寸的小规模生产线万片SiC衬底。
晶格领域凭借其自主知识产权的液相法碳化硅单晶生长技术,提升了晶体质量并降低了生产成本。它的高质量4H-p型碳化硅和3C-n型立方碳化硅衬底的研发,将为国内外的半导体产业提供强有力的技术支持。此次投资不仅彰显了北京市对半导体产业的重视,也进一步推动了我国在新材料技术上的自主创新和突破。
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